Alvo de zircônio de alta qualidade na China

Detalhes do Produto


Zr sputtering target.jpg

Descrição do Produto

Nome do item

alvos rotativos monolíticos de zircônio

Pureza

99,95%

Forma

alvo de giro / de acordo com seu pedido

Tamanho disponível

1. & Oslash; 30--2000mm, espessura 3.0mm-300mm

2.Plate Targe: Comprimento: 200-500mm Largura: 100-230mm Espessura: 3-40mm

3. personalizado está disponível

Certificados

ISO9001: 2008, GV, o terceiro relatório de teste

Technics

Forjado e Usinado CNC

Superfície

Superfície do torno CNC.

Aplicação

1. Galvanoplastia;
2. Engenharia química e tecnologia petroquímica;
3. Médico


Nome do Produto Alvo de zircônio
Grau ZR702 / ZR705
Origem baoji cidade província de Shaanxi china
forma Alvo / prato alvo alvo / alvo redondo
Grau ZR702 / ZR705
Alvo de tubo 0.1-30.0mm (WT) * 3-350mm (OD) * 50-15000mm
Aplicação

Separação de semicondutores, materiais de revestimento de filme, revestimento de eletrodo de armazenamento, revestimento de Sputtering, revestimento de superfície, indústria de revestimento de vidro.


Alvo de alta pureza de sputtering de metal

Alumínio

Al

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N ~ 6N

Chronium

Cr

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

2N ~ 3N5

Zircônio

Zr

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

2N2 ~ 4N

Titânio

Ti

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

4N ~ 5N

Molibdênio

Mo

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N ~ 4N

Nióbio

Nb

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N5

Tatalum

Ta

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

4N5

Tungstênio

W

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N5

Háfnio

Hf

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N

Vanádio

V

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

2N5 ~ 3N


Inquérito
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